关键词：蚀刻液

行业：半导体

MT-V6自动电位滴定仪电位滴定测定混酸含量——硝酸氢氟酸

摘要

在半导体制造领域，刻蚀技术是实现微电子器件精细加工的关键步骤之一。半导体湿法刻蚀工艺，简称湿法刻蚀，是一种通过化学溶液来去除晶圆表面特定材料层的技术。这种工艺利用化学反应来精确地控制材料的形状和尺寸，以满足半导体器件的制造要求。本文主要介绍通过MT-V6自动电位滴定仪来测试硝酸/氢氟酸蚀刻液体系的含量。

仪器配置

●MT-V6电位滴定仪

●pH102电极（or锑电极）

●20mL高精度计量管

●100mL滴定杯

试剂配置

●滴定剂：氢氧化钠标准溶液

●滴定度：0.5111mol/L

测定方法

●酸碱滴定/电位滴定

●称取适量试样于烧杯中，加50mL溶剂溶解，搅拌均匀，插入电极，选用蚀刻液测试方法，用氢氧化钠标准溶液滴定到终点

仪器参数

●最小滴定体积：10μL

●最大滴定体积：100μL

●搅拌速度：200

●每滴间隔：1500ms

●终点模式：微分判定

●微分设置：200

测试数据

●环境温度：20℃

●环境湿度：46%

●测试时间：2min

测试结果：经测试，蚀刻液的硝酸浓度约为20.72%，氢氟酸浓度约为5.17%。